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Takashi Nishimura
Takashi Nishimura
National Institute of Technology, Suzuka College: Suzuka, JPAssociate Professor (Department of
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Electrochemical etching of metal wires in low-stress electric contact using a liquid metal electrode to fabricate tips for scanning tunneling microscopy
T Nishimura, AMA Hassan, M Tomitori
Applied surface science 284, 715-719, 2013
112013
Local protrusions formed on Si (111) surface by surface melting and solidification under applied tensile stress
T Nishimura, M Tomitori
Applied Physics Letters 109 (12), 2016
82016
Adsorption State of 4,4′′-Diamino-p-terphenyl through an Amino Group Bound to Si(111)-7 × 7 Surface Examined by X-ray Photoelectron Spectroscopy and …
T Nishimura, A Itabashi, A Sasahara, H Murata, T Arai, M Tomitori
The Journal of Physical Chemistry C 114 (25), 11109-11114, 2010
82010
Silicon protrusions with caps containing precipitates of iron silicides fabricated via liquid-phase epitaxy under a temperature distribution with a local maximum caused by …
T Nishimura, M Tomitori
Japanese Journal of Applied Physics 59 (8), 085501, 2020
62020
Microanalysis of silicon protrusions with a titanium cap formed via surface melting and solidification under applied tensile stress
T Nishimura, M Tomitori
Japanese Journal of Applied Physics 58 (2), 025501, 2019
62019
Fabrication of Si protrusions by local melting of a narrow current path on a Si wafer via resistive heating
T Nishimura, M Tomitori
Japanese Journal of Applied Physics 60 (12), 126506, 2021
42021
Effect of a magnetic field on fabrication of Si protrusions by local surface melting of a narrow current path on a Si wafer via resistive heating
T Nishimura, M Tomitori
Japanese Journal of Applied Physics 62 (3), 035503, 2023
22023
Stable alignment of 4, 4 ″-diamino-p-terphenyl chemically adsorbed on a Si (001)-(2× 1) surface observed by scanning tunneling microscopy
AMA Hassan, T Nishimura, A Sasahara, H Murata, M Tomitori
Surface science 630, 96-100, 2014
22014
Thermal Transformation of 4,4″-Diamino-p-terphenyl on a Si(111)-7 × 7 Surface Analyzed by X-ray Photoemission Spectroscopy and Scanning Tunneling …
T Nishimura, A Sasahara, H Murata, T Arai, M Tomitori
The Journal of Physical Chemistry C 118 (43), 25104-25109, 2014
22014
Fabrication of a sharp Si protrusion with a faceted apex grown from a surface-melted silicon wafer under high electric and magnetic fields: application to field emission …
T Nishimura, M Tomitori
Japanese Journal of Applied Physics 63 (6), 065505, 2024
12024
In situ observation of formation of Si protrusions by local melting of a Si narrow current path using resistive heating together with electron beam irradiation
T Nishimura, M Tomitori
Japanese Journal of Applied Physics 61 (6), 065508, 2022
12022
仕分け作業を題材としたロボットハンドリング実習の試み
西村高志
工学教育 72 (5), 5_81-5_84, 2024
2024
レゴデュプロとブレッドボードによるロボット教材の開発と試行錯誤型実習の試み
西村高志, 川口雅司
工学教育 71 (3), 3_90-3_93, 2023
2023
局所応力印加下での金属蒸着表面液相エピタキシャル成長による突起構造形成
西村高志, 鈴木啓耀, 富取正彦
日本表面真空学会学術講演会要旨集 2019 年日本表面真空学会学術講演会, 3Fa12, 2019
2019
高温・局所歪印加によるシリコン突起構造の形成と先端部への金属キャップ形成
西村高志, 富取正彦
表面科学学術講演会要旨集 2017 年真空・表面科学合同講演会, 5, 2017
2017
電子ビームを用いた局所溶融によるシリコンの微細加工
西村高志, 小島靖彦
精密工学会学術講演会講演論文集 2015 年度精密工学会春季大会, 843-844, 2015
2015
24pCC-3 Si (001) に吸着した DAT の STM 像探針バイアス依存性 (24pCC 表面界面構造, 領域 9 (表面・界面, 結晶成長))
小田将人, 西村高志, 笹原亮, 村田英幸, 新井豊子, 富取正彦
日本物理学会講演概要集 67.1. 4, 936, 2012
2012
23pHA-9 Si (001) 表面における DAT 分子の電子状態 (23pHA 表面界面電子物性 (シミュレーション), 領域 9 (表面・界面, 結晶成長))
小田将人, 西村高志, 笹原亮, 村田英幸, 新井豊子, 富取正彦
日本物理学会講演概要集 66.2. 4, 933, 2011
2011
π 共役系分子で界面制御した Si/有機半導体素子の製作と評価
西村高志, 新井豊子, 村田英幸, 笹原亮, 富取正彦
応用物理学会学術講演会講演予稿集 第 58 回春季応用物理学関係連合講演会, 2403-2403, 2011
2011
26pTG-6 Si (001) 表面における DAT 分子の吸着構造と電子状態 (26pTG 表面界面電子物性 (シミュレーション), 領域 9 (表面・界面, 結晶成長))
小田将人, 西村高志, 笹原亮, 村田英幸, 新井豊子, 富取正彦
日本物理学会講演概要集 66.1. 4, 917, 2011
2011
現在システムで処理を実行できません。しばらくしてからもう一度お試しください。
論文 1–20